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圖解EUV曝光機構造 陸秘製原型機靠4手段挑戰ASML
路透報導，中國大陸科學家在深圳一處高度保密實驗室完成一台極紫外光（EUV）曝光機原型機，拚2028年生產先進晶片。該設備是製造先進半導體的核心技術，由荷蘭的艾司摩爾（ASML）公司獨家掌握，過去一直被禁止輸入中國。
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